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拋光液（不含硫等添加劑的水溶性拋光劑）

次瀏覽 | 更新時(shí)間：2023-05-19

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拋光液

不含硫等添加劑的水溶性拋光劑

拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，的拋光液具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品超過(guò)原有的光澤。本產(chǎn)品性能穩(wěn)定、無(wú)毒，對(duì)環(huán)境無(wú)污染等作用。

基本信息

外文名	Polishing liquid
性能	去油污，防銹，清洗和增光性能
類(lèi)別	水溶性拋光劑
作用	性能穩(wěn)定、無(wú)毒，對(duì)環(huán)境無(wú)污染

簡(jiǎn)介

特性

拋光液使用方法：包括棘輪扳手、開(kāi)口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺絲刀等，鉛錫合金、鋅合金等金屬產(chǎn)品經(jīng)過(guò)研磨以后，再使用拋光劑配合振動(dòng)研磨光飾機(jī)，滾桶式研磨光式機(jī)進(jìn)行拋光；1拋光劑投放量為（根據(jù)不同產(chǎn)品的大小，光飾機(jī)的大小和各公司的產(chǎn)品光亮度要求進(jìn)行適當(dāng)配置），2：拋光時(shí)間：根據(jù)產(chǎn)品的狀態(tài)來(lái)定。3、拋光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。

英文名

polishing slurry

拋光液

CMP（Chemical Mechanical Polishing）

化學(xué)機(jī)械拋光

這兩個(gè)概念主要出現(xiàn)在半導(dǎo)體加工過(guò)程中，最初的半導(dǎo)體基片（襯底片）拋光沿用機(jī)械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是及其嚴(yán)重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術(shù)綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì)：?jiǎn)渭兊幕瘜W(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，完美性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機(jī)械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深。化學(xué)機(jī)械拋光可以獲得較為完美的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個(gè)數(shù)量級(jí)，是目前能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的唯一有效方法。

制作步驟

依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等，對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過(guò)程和影響因素研究標(biāo)明，化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng)，它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過(guò)程：

（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。

（2）拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面，即解吸過(guò)程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來(lái)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過(guò)程。

硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過(guò)程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過(guò)程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。

參考配方

組分	投料量（g/L ）
硫酸	350~400
硝酸	30~50
雙氧水	30~100
鹽酸	40~80
乙酸	20~50

展開(kāi)表格

拋光液酸堿度

拋光液的酸堿度就是拋光液的PH值，當(dāng)拋光液的PH值為9.6時(shí)，拋光液的機(jī)械作用遠(yuǎn)大于化學(xué)作用，去除速率比較大，導(dǎo)致拋光后拋光片表面產(chǎn)生高損傷層，粗糙度比較大；當(dāng)拋光液的pH值增大為10.84～11.34時(shí)，機(jī)械作用和化學(xué)作用達(dá)到一種對(duì)等狀態(tài)時(shí)，此時(shí)化學(xué)作用的均勻性好，使得表面張力小，質(zhì)量處理的一致性好，可以得到良好的表面拋光效果；當(dāng)pH值大于11.67時(shí)，SiO2 水溶膠在強(qiáng)堿的作用下，生成易溶于水的硅酸氨，使得硅溶膠中的SiO2顆粒不能起到磨削作用，變成透明的液體，此時(shí)機(jī)械作用基本失效，拋光以化學(xué)作用為主，表面蝕坑增多，使得表面粗糙度重新增加。

常見(jiàn)產(chǎn)品

拋光液

BD-H201型鋁件化學(xué)拋光液

BD-H302型不銹鋼化學(xué)拋光液

BD-H001型低碳鋼常溫化學(xué)拋光液：

BD-H001型低碳鋼常溫化學(xué)拋光液對(duì)低碳鋼工件有良好的拋光效果，最佳效果能達(dá)到鏡面光亮，外觀可與裝飾鉻媲美。使用本品拋光，可提高工效，還可縮短鍍鎳時(shí)間。

BD-H201型鋁件化學(xué)拋光液是專門(mén)為提高鋁制品表面光潔度而設(shè)計(jì)的一種化學(xué)拋光液，鋁制品經(jīng)過(guò)本品拋光后，可達(dá)到鏡面亮度，可作為鋁制品成品裝飾用，也可作為鋁制品表面處理過(guò)程中的中間工序使用。本品為淡藍(lán)色透明狀液體。

BD-H302型不銹鋼化學(xué)拋光液不受零件形狀、體積限制，可以改變不銹鋼制品機(jī)械損傷層和應(yīng)力層，提高機(jī)械強(qiáng)度，效率高，表面精飾效果好。

市面常見(jiàn)拋光液

硅材料拋光液、藍(lán)寶石拋光液、砷化鎵拋光液、鈮酸鋰拋光液、鍺拋光液、集成電路多次銅布線拋光液、集成電路阻擋層拋光液、研磨拋光液、電解拋光液、不銹鋼電化學(xué)拋光液，不銹鋼拋光液、石材專用納米拋光液、氧化鋁拋光液、銅化學(xué)拋光液、鋁合金拋光液、鏡面拋光液、銅拋光液、玻璃研磨液、藍(lán)寶石研磨液、酸性拋光液、鋁材拋光液、金剛石拋光液、鉆石拋光液、單晶體鉆石研磨液、拋光膏

行業(yè)概況

供求關(guān)系是一個(gè)行業(yè)能否快速發(fā)展的前提。目前來(lái)看，市場(chǎng)需求是很大的，而供應(yīng)方面卻略顯不足，尤其是擁有核心知識(shí)產(chǎn)權(quán)，產(chǎn)品質(zhì)量過(guò)硬的企業(yè)并不多，行業(yè)整體缺乏品牌效應(yīng)。在需求旺盛的階段，行業(yè)需求巨大，發(fā)展前景好，這是毋庸置疑的。但如何保持行業(yè)的健康，穩(wěn)定且可持續(xù)發(fā)展，拋麗斯呼吁業(yè)內(nèi)企業(yè)共同努力，尤其需要發(fā)揮吹毛求疵的研發(fā)精神，進(jìn)一步提高生產(chǎn)工藝，降低成本，真正解決客戶的實(shí)際困難，嚴(yán)把質(zhì)量關(guān)，提供最可靠的產(chǎn)品。

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“改性納米金剛石發(fā)動(dòng)機(jī)油”和“金剛石拋光液”兩項(xiàng)目通過(guò)鑒

2006-01-27日前，“改性納米金剛石發(fā)動(dòng)機(jī)油”和“金剛石拋光液”兩項(xiàng)目成果通過(guò)天津市科委鑒定。

“改性納米金剛石發(fā)動(dòng)機(jī)油”成果解決了納米金剛石在油中長(zhǎng)期懸浮的國(guó)際性難題。研制了國(guó)際領(lǐng)先的超低含量納米金剛石發(fā)動(dòng)機(jī)油。應(yīng)用實(shí)驗(yàn)證明：發(fā)動(dòng)機(jī)的動(dòng)力性、經(jīng)濟(jì)性和排放性有明顯改善，性能高于國(guó)內(nèi)、外同類(lèi)產(chǎn)品。該成果是潤(rùn)滑與摩擦的理論和實(shí)踐的一次重大創(chuàng)新，是納米科學(xué)、物理化學(xué)與有機(jī)化工交叉科學(xué)的結(jié)晶，使潤(rùn)滑油的性能有了質(zhì)的飛躍。該成果具有獨(dú)立自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，其發(fā)明專利已被授權(quán)。

“金剛石拋光液”成果從金剛石微粉的制造、分級(jí)、配制，探索了表面改性工藝，研制了拋光液，并對(duì)其使用性能進(jìn)行了多方面的測(cè)試。通過(guò)對(duì)金剛石表面改性及強(qiáng)超聲處理，僅加入分散劑，解決了其長(zhǎng)期懸浮的問(wèn)題，并利于環(huán)保。該成果同樣具有獨(dú)立自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)。經(jīng)查國(guó)內(nèi)外均未發(fā)現(xiàn)與本課題技術(shù)特征相同的專利及非專利文獻(xiàn)報(bào)道。該成果成功解決了高級(jí)拋光液完全依賴進(jìn)口的被動(dòng)局面，對(duì)促進(jìn)光電子和計(jì)算機(jī)等行業(yè)的發(fā)展有積極作用。

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